Suure võimsusega impulsslaseriga puhastamise protsess sõltub kiudlaseriga genereeritud valgusimpulsside omadustest ja põhineb fotofüüsikalisel reaktsioonil, mis moodustub suure intensiivsusega kiire, lühiimpulsslaseri ja saastunud kihi vastastikusest mõjust. .
Füüsikalised põhimõtted võib kokku võtta järgmiselt:
(1) Laseri kiirgav kiir neeldub töödeldava pinna saastunud kihti;
(2) suure energia neeldumine kiiresti paisuva plasma (väga ioniseeritud ebastabiilse gaasi) moodustamiseks, mille tulemuseks on lööklained;
(3) lööklaine põhjustab saasteaine killustumist ja tagasilükkamist;
4) Valgusimpulsi laius peab olema piisavalt lühike, et vältida kuumuse kogunemist, mis hävitab töödeldava pinna;
5) Plasma tekib metalli pinnale, kui pinnal on oksiidid.
